五氟化碘

IF5在有机合成中用作氟化剂，但与BrF3或ClF3相比，其活性较小。由于自身的导电率，IF5还是一种离子化溶剂，能与Lewis酸和碱反应生成相应的盐。IF5的主要用途在于含氟烷基碘化物的制备，而这些又是合成全氟烷基化合物的有用中间体。IF5的另外一个用途是作为半导体生产的蚀刻剂。IF5可以在许多金属表面形成一层惰性金属氟化物保护膜，以防金属的进一步腐蚀，并使其适合用作结构材料。Booth和Pinkston声称IF5对如银、镁、铜、铁和铬的这类金属的侵蚀性非常弱，即使经过长时间的侵蚀也没有明显的腐蚀。砷、锑和硼在与IF5接触时能自发燃烧，释放出碘和金属氟化物。而钼和钨则需加热后才会与IF5反应。
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